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TPR-HP高圧光化学反応装置、光化学反応装置の設計

TPR-HP高圧光化学反応装置、光化学反応装置の設計

主成分:ステンレス鋼製反応容器、PTFEセット、圧力石英ガラス、フィルター等
2.カスタマイズサポート、TOP-Xシリーズ光源と併用します。

TPR-HP高圧光化学反応装置、光化学反応装置の設計

主成分:ステンレス鋼製反応容器、PTFEセット、圧力石英ガラス、フィルター等

2.Customization:-120℃〜300℃高低温度サーキュレータ、過圧放出ガス保護装置、テイラー標準ふるい。

3.このタイプの高圧光化学反応容器は、TOP-Xシリーズ光源と共に使用する必要があります。

TPR-HP高圧光化学反応装置.jpgショートアークキセノン光源.jpg

TPR-HP高圧光化学反応装置の技術的パラメータ:

モデル

TPR-HP150

TPR-HP300

TPR-HP500

TPR-HP1000

光源タイプ

キセノン/ UV ランプ

光源パワー

500W

500W

1000W

1500W

光源の寿命

1000H

1000H

1000H

1000H

放射特性

ポイントソース

ポイントソース

ポイントソース

ポイントソース

照射径

80MM

80MM

80MM

100MM

冷却システム

3強力なラジエーター

圧力ライトウィンドウ

持ってる

磁気撹拌装置

持ってる

リフティングプラットフォーム

持ってる

反応容器の主材料

ステンレス鋼316L / 純チタン/ハステロイ合金 オプション

単一腐食PTFE内部容量

150ML

300ML

500ML

1000ML

ジャケットタイプ耐食性PTFE内部容量(オプション)

150ML

300ML

500ML

1000ML

設計圧力(オプション)

2KG / 5KG / 10KG / 20KG

high pressure photochemical reactor 5 .jpg

high pressure photochemical reactor 1.jpg

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